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J-GLOBAL ID：200902208079600794   整理番号：04A0741900

水中に閉じ込めたシリコンとフェムト秒レーザの相互作用

Femtosecond laser interaction with silicon under water confinement

著者 (3件)： DAMINELLI G (Federal Inst. for Materials Res. and Testing, Berlin, DEU) ,  KRUEGER J (Federal Inst. for Materials Res. and Testing, Berlin, DEU) ,  KAUTEK W (Federal Inst. for Materials Res. and Testing, Berlin, DEU)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 467  号： 1/2  ページ： 334-341  発行年： 2004年11月22日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス幅130fs,波長800nmのフェムト秒レーザパルスと...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： シリコン ,...

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分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水中 ,  シリコン ,  フェムト秒レーザ ,  相互作用