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J-GLOBAL ID：200902209933478619   整理番号：06A0371327

フォトレジストの処理に使用する熱電気素子と電灯を基本にした統合型の加熱/冷却システム

A thermoelectricity-lamp based integrated bake/chill system for photoresist processing
著者 (4件)：
TAY Arthur

TAY Arthur について

(National Univ., Singapore)

National Univ., Singapore について

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CHUA Hui-Tong

CHUA Hui-Tong について

(Univ. Western Australia, WA, AUS)

Univ. Western Australia, WA, AUS について

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HO Wee-Sin

HO Wee-Sin について

(National Univ., Singapore)

National Univ., Singapore について

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ZHOU Ying

ZHOU Ying について

(Inst. Chemical and Engineering Sci., Singapore)

Inst. Chemical and Engineering Sci., Singapore について


資料名：
Annual Conference of the IEEE Industrial Electronics Society  (Annual Conference of the IEEE Industrial Electronics Society)

Annual Conference of the IEEE Industrial Electronics Society について


巻： 31st Vol.1  ページ： 153-158  発行年： 2005年 
JST資料番号： H0475B  ISSN： 1553-572X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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半導体ウエハに使用する化学増幅型フォトレジストCARは,露光...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*フォトレジスト

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
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フォトレジスト

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熱電気

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電灯

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統合

統合 について

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冷却システム

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