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J-GLOBAL ID:200902210036671536   整理番号:07A0377827

低温塗布プロセスによる高性能酸化シリコン絶縁膜作製技術の開発

著者 (6件):
資料名:
巻: 54th  号:ページ: 868  発行年: 2007年03月27日 
JST資料番号: Y0054A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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酸化物薄膜 

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