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J-GLOBAL ID：200902210113296280   整理番号：03A0611394

レーザドリルバイアホール充填のための銅電気めっきにおける光沢剤と塩化物イオン間の相互作用

Interactions Between Brightener and Chloride Ions on Copper Electroplating for Laser-Drilled Via-Hole Filling

著者 (3件)： DOW W-P (National Yunlin Univ., Yunlin, TWN) ,  HUANG H-S (National Yunlin Univ., Yunlin, TWN) ,  LIN Z (Unicap Electronics Ind. Corp., Taoyuan, TWN)
資料名： Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 6  号： 9  ページ： C134-C136  発行年： 2003年09月 
JST資料番号： W1290A  ISSN： 1099-0062  CODEN： ESLEF6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プリント基板にレーザアブレーションによって作った85~110...

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,...
準シソーラス用語： ポリエチレングリコール

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分類 (2件)： 電気めっき  (WC08023B) ,  電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (1件)： 3-メルカプト-1-プロパンスルホン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 銅 ,  電気めっき ,  光沢剤 ,  塩化物イオン ,  相互作用