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J-GLOBAL ID：200902210312457101   整理番号：04A0649697

高周波素子用途の高誘電率薄膜や材料集積法の科学と技術

Science and Technology of High Dielectric Constant Thin Films and Materials Integration for Application to High Frequency Devices

著者 (8件)： AUCIELLO O (Argonne National Lab., IL, USA) ,  SAHA S (Argonne National Lab., IL, USA) ,  KAUFMAN D Y (Argonne National Lab., IL, USA) ,  STREIFFER S K (Argonne National Lab., IL, USA) ,  FAN W (Argonne National Lab., IL, USA) ,  KABIUS B (Argonne National Lab., IL, USA) ,  IM J (Argonne National Lab., IL, USA) ,  BAUMANN P (Argonne National Lab., IL, USA)
資料名： Journal of Electroceramics  (Journal of Electroceramics)
巻： 12  号： 1/2  ページ： 119-131  発行年： 2004年01月 
JST資料番号： W1123A  ISSN： 1385-3449  CODEN： JOELFJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ba_1-xSr_x...

シソーラス用語： 誘電体薄膜 ,...
準シソーラス用語： 有機金属化学気相成長法

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分類 (2件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波 ,  用途 ,  高誘電率薄膜 ,  集積 ,  科学