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J-GLOBAL ID：200902210448405709   整理番号：06A0349679

電子ビーム蒸着で作成したCrシリサイドの非晶質皮膜におけるモデュレート構造

Modulated structures in amorphous films of Cr-silicide prepared by electron-beam-deposition

著者 (9件)： KITANO Yasuyuki (National Inst. Advanced Industrial Sci. & Tech., Osaka, JPN) ,  YAMAMOTO Koichi (Fukuda Metal Foil & Powder Co. Ltd., Kyoto, JPN) ,  WADA Masashi (Fukuda Metal Foil & Powder Co. Ltd., Kyoto, JPN) ,  YIN Jingtian (National Inst. Advanced Industrial Sci. & Tech., Osaka, JPN) ,  TODA Yumio (National Inst. Advanced Industrial Sci. & Tech., Osaka, JPN) ,  TANAKA Koji (National Inst. Advanced Industrial Sci. & Tech., Osaka, JPN) ,  TANABE Eishi (Western Hiroshima Industrial Res. Inst., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  KOMATSU Masao (Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN) ,  SAKAI Tetsuo (National Inst. Advanced Industrial Sci. & Tech., Osaka, JPN)
資料名： Zeitschrift fuer Metallkunde  (Zeitschrift fuer Metallkunde)
巻： 97  号： 3  ページ： 310-314  発行年： 2006年03月 
JST資料番号： E0438A  ISSN： 0044-3093  CODEN： ZEMTA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅基盤上に常温で蒸着したCrSi₂皮膜...

シソーラス用語： クロム化合物 ,...
準シソーラス用語： *シリサイド ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム蒸着 ,  Cr ,  シリサイド ,  非晶質 ,  皮膜