レジストTDMR-AR80およびTDMR-AR95を用いたi線露光による0.3μm以下の構造のプリンティング

BEHRENDT A.; DOW T.; STOEFLIN K.

文献

J-GLOBAL ID：200902210705897162 整理番号：07A0731194

レジストTDMR-AR80およびTDMR-AR95を用いたi線露光による0.3μm以下の構造のプリンティング

Printing of structures less than 0.3um by i-line exposure using resists TDMR-AR80 und TDMR-AR95

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資料名：
巻： 6519 号： Pt.2 ページ： 65193J.1-65193J.8 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

フォトレジスト処理技術に関する研究の一環として,本研究では,...

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固体デバイス製造技術一般

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