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J-GLOBAL ID：200902211898266896   整理番号：09A1128278

印刷可能なナノワイヤエレクトロニクスおよびセンサの開発を目指して

Toward the Development of Printable Nanowire Electronics and Sensors

著者 (8件)： FAN Zhiyong (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  HO Johnny C. (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  TAKAHASHI Toshitake (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  YERUSHALMI Roie (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  TAKEI Kuniharu (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  FORD Alexandra C. (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  CHUEH Yu-Lun (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  JAVEY Ali (Univ. California at Berkeley, CA, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 21  号： 37  ページ： 3730-3743  発行年： 2009年10月05日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無機半導体と屈曲性基板に基づく印刷電子回路の研究開発について,著者らによる単結晶の大規模集積,無機ナノワイヤ(NW)アレイ,特にNW転写印刷技術について総説した。A.序論 B.NW印刷法 B1.印刷プロセスの動力学 B2.パターン印刷 B3.NW超構造の印刷 C.エレクトロニクス,オプトエレクトロニクス,およびセンサのための印刷NWアレイ C1.エレクトロニクスのためのNW並行アレイ C2.センサのためのNW並行アレイ C3.オプトエレクトロニクスのためのNW並行アレイ C4.全NW集積センサ回路。

シソーラス用語： ナノ構造 ,  細線 ,  *ナノワイヤ ,  LSI【IC】 ,  アレイ回路 ,  *プリント配線 ,  *フレキシブル基板 ,  *回路パターン形成 ,  集積回路 ,  薄膜回路 ,  オプトエレクトロニクス ,  電子技術 ,  センサアレイ ,  光センサ ,  半導体 ,  単結晶 ,  *転写印刷 ,  構造
準シソーラス用語： LSI回路 ,  アレイセンサ ,  エレクトロニクス ,  ナノワイヤアレイ ,  プリント回路 ,  フレキシブルエレクトロニクス ,  *フレキシブルプリント回路 ,  フレキシブル回路 ,  *印刷回路 ,  大規模集積回路 ,  超構造

分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  固-固界面  (CB12060M) ,  印刷  (ZA05040A)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノワイヤ ,  エレクトロニクス ,  開発