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J-GLOBAL ID：200902212041557302   整理番号：06A0065764

ホットエンボス成形による精細な微細パターンの転写

Precise Micro Pattern Replication by Hot Embossing

著者 (4件)： IDEI Kazuyoshi (Nakanishi Metal Works Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  MEKARU Harutaka (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  TAKEDA Hiroaki (IKEX Ind. Co., Ltd., Aichi, JPN) ,  HATTORI Tadashi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： JSME International Journal. Series A. Solid Mechanics and Material Engineering (Japan Society of Mechanical Engineers)  (JSME International Journal. Series A. Solid Mechanics and Material Engineering (Japan Society of Mechanical Engineers))
巻： 49  号： 1  ページ： 69-73  発行年： 2006年01月15日 
JST資料番号： G0026B  ISSN： 1344-7912  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 放射光を利用したLIGAプロセスは高精細な微細構造体を安価に...

シソーラス用語： *エンボス加工 ,...
準シソーラス用語： LIGAプロセス ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• BEKER, E. W. Fabrication of Microstructures with High Aspect Ratios and Great Structural Heights by Synchrotron Radiation Lithography, Galvanoforming and Plastic Molding. Microelectron Eng. 1986, 4, 35-42
• HATTORI, T. Application of Synchrotron Radiation to Nano Micro Manufacturing. Welding Society Magazine. 2002, 71, 3, 5-14
• YAMADA, T. Development of Vacuum Hot Embossing Equipment. Journal of the Society of Plant Engineers Japan. 2002, 91-95
• YAMADA, T. Design of a New Hot Embossing Equipment for Fabrication of Microstructures. JMSE/AMSE International Conference on Materials and Processing 2002, Proceedings. 2002, 597-600
• MEKARU, H. A Deep X-ray Lithography in the "NewSUBARU". 2002 International Microprocessors and Nanotechnology Conference, Nov. 6-8. 2002, 108-109

タイトルに関連する用語 (3件)： エンボス成形 ,  微細パターン ,  転写