文献
J-GLOBAL ID:200902212280240000   整理番号:09A0236237

緻密なFe22Ni78クラスタ集合膜の高周波磁気特性

High Frequency Magnetic Property of Dense Fe22Ni78 Cluster Assembled Films
著者 (7件):
資料名:
巻: 50  号:ページ: 664-670 (J-STAGE)  発行年: 2009年 
JST資料番号: G0668A  ISSN: 1345-9678  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
プラズマ-ガス凝縮クラスタ堆積装置を用いて,Fe22Ni78クラスタを基板上に堆積させた。バイアス電圧,VAを基板に印加した時,中性および帯電したクラスタがプラズマ域中に形成し,基板上にハードランドして緻密なFe22Ni78クラスタ集合膜を形成した。スパッタリング室内へO2ガスの導入を行なわなかった(酸素流量,RO2=0mol/s)試験片について,保持力,HCは減少し,一方,飽和磁化,MSはVAが20kVまで増加した時に上昇する。透磁率,μ′の実数部はVA=0kVについては非常に小さく,VA=5~20kVについては数百になる。VA=20kV,RO2≠0mol/sで調製した緻密なFe22Ni78クラスタ集合膜については,MSは低下し,一方,磁気異方性場,HKおよび電気抵抗率,ρは増加し,強磁性共鳴周波数,fFMRはGHzの周波数(f)範囲まで増加する。二つの磁気的に最適な状態がある:(1)酸素流量,RO2=0mol/sおよびAr流量,RAr=4.5×10-4mol/sで,VA=20kVで調製した試験片について,f=10MHzにおいてμ′=760,および(2)VA=20kV,RO2=3.7×10-8mol/sおよびRAr=4.5×10-4mol/sで調製したものに対して,10MHzにおいてμ′=370およびfFMR=1.10GHz。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
磁気的性質 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る