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J-GLOBAL ID：200902212407253409   整理番号：08A0678273

光触媒応用のためのレーザアブレーションによるTiO₂薄膜の作製

Preparation of TiO₂ thin films by laser ablation for photocatalytic applications

著者 (5件)： WANG S. J. (Dep. of Materials and Mineral Resources Engineering, National Taipei Univ. of Technol., Taipei, Taiwan 10608 ...) ,  CHANG W.-t. (Inst. of Opto-Electronic Engineering and Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Dong Hwa Univ., Hualien ...) ,  CIOU J.-y. (Inst. of Opto-Electronic Engineering and Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Dong Hwa Univ., Hualien ...) ,  WEI M.-k. (Inst. of Opto-Electronic Engineering and Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Dong Hwa Univ., Hualien ...) ,  WONG M. S. (Inst. of Opto-Electronic Engineering and Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Dong Hwa Univ., Hualien ...)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 26  号： 4  ページ： 898  発行年： 2008年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化チタン(TiO₂)ターゲットを用いてパルスKrFエキシマレーザアブレーション蒸着装置によりTiO₂膜を蒸着した。基板温度と酸素分圧が種々の微細構造の相形成に及ぼす影響をX線回折,走査電子顕微鏡,Raman散乱分光法,紫外可視分光計を用いて調べた。膜構造は非晶質からアナターゼ及びルチルから純アナターゼへの混合相にまで広がった。基板温度が上昇すると,結晶TiO₂膜のアナターゼ相の質が向上した。15~60mTorrの酸素圧力はTiO₂膜中で単一アナターゼ相を示したが,ルチル及びアナターゼ混合相は他の場所で観測した。酸素圧力が増すとTiO₂のバンドギャップは2.72から3.27eVに変化し,膜構造はルチル相からアナターゼ相に変わった。膜堆積における酸素分圧と共に膜の表面積が広がった。紫外線によるメチレンブルーの分解で評価した光触媒性能は高いアナターゼ相と広い表面積を有するTiO₂膜で識別可能であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  エキシマレーザ ,  レーザアブレーション ,  基板温度 ,  分圧 ,  微細構造 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  Raman散乱 ,  Raman分光法 ,  ルチル型結晶 ,  アナターゼ型結晶 ,  バンドギャップ ,  *薄膜成長 ,  *光触媒 ,  酸素分圧

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光触媒 ,  応用 ,  レーザアブレーション ,  TiO2 ,  薄膜 ,  作製