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J-GLOBAL ID：200902213416248970   整理番号：09A0060885

ニオブアノード酸化皮膜成長時の応力について

著者 (6件)： 小笠原健 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院) ,  瀬尾眞浩 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  松岡良輔 (キャボットスーパーメタル) ,  泉知夫 (キャボットスーパーメタル)
資料名： 三学協会北海道支部研究発表会講演要旨集  (3学協会北海道支部研究発表会要旨集)
巻： 2007  ページ： 28  発行年： 2007年 
JST資料番号： L6025A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電解コンデンサ ,  *ニオブ ,  *アノード酸化 ,  酸化膜 ,  応力測定 ,  蒸着膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  たわみ ,  レーザビーム ,  膜厚 ,  輸率 ,  酸素 ,  成長速度 ,  引張応力 ,  圧縮応力 ,  電歪 ,  陽極酸化皮膜 ,  化成皮膜 ,  計測

分類 (2件)： 化成処理  (WC08050J) ,  LCR部品  (NA05030D)

タイトルに関連する用語 (4件)： ニオブ ,  アノード酸化皮膜 ,  成長 ,  応力