サブ65nmノード光リソグラフィー用のCLM技術に対する位相格子の応用

YOON Gi-Sung; KIM Sung-Hyuck; PARK Ji-Soong; CHOI Sun-Young; JEON Chan-Uk; SHIN In-Kyun; CHOI Sung-Woon; HAN Woo-Sung

文献

J-GLOBAL ID：200902213945019579 整理番号：05A0763542

サブ65nmノード光リソグラフィー用のCLM技術に対する位相格子の応用

The application of phase grating to CLM technology for the sub-65nm node optical lithography

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資料名：
巻： 5853 号： Pt.2 ページ： 703-713 発行年： 2005年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

サブ65nmノードの光リソグラフィーに対して,分解能増強技術...

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固体デバイス製造技術一般 , 光の像形成

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