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J-GLOBAL ID：200902214538114148   整理番号：05A0760506

逆相エマルション系におけるシリカ中空粒子の界面調製

Interfacial Fabrication of Silica Hollow Particles in a Reverse Emulsion System

著者 (3件)： SONG Linyong (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Univ. of Sci. & Technol. of China) ,  GE Xuewu (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Univ. of Sci. & Technol. of China) ,  ZHANG Zhicheng (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Univ. of Sci. & Technol. of China)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 34  号： 10  ページ： 1314-1315 (J-STAGE)  発行年： 2005年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温の逆相エマルション(W/Oエマルション)中で界面法を用い...

シソーラス用語： 乳濁液 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (1件)： 臭化セチルトリメチルアンモニウム

引用文献 (18件)：

• 1) F. Caruso, Chem.—Eur. J., 6, 413 (2000).
• 2) F. Caruso, R. A. Caruso, and H. Mohwald, Science, 282, 1111 (1998).
• 3) K. H. Rhodes, S. A. Davis, F. Caruso, B. J. Zhang, and S. Mann, Chem. Mater., 12, 2832 (2000).
• 4) J. F. Chen, H. M. Ding, J. X. Wang, and L. Shao, Biomaterials, 25, 723 (2004).
• 5) J. H. Park, S. Y. Bae, and S. G. Oh, Chem. Lett., 32, 598 (2003).

タイトルに関連する用語 (6件)： 逆相 ,  エマルション ,  シリカ ,  中空粒子 ,  界面 ,  調製