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J-GLOBAL ID：200902214970642708   整理番号：08A0655853

ストライプ型光導波路を作製するためのSiO₂/TiO₂ゾル-ゲル膜のレーザ直接描画

Laser Direct Writing of SiO₂/TiO₂ Sol-Gel Films to Fabricate Stripe Optical Waveguides

著者 (6件)： ZENG Xiaoyan (Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN) ,  LI Aikui (Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN) ,  WANG Zemin (Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN) ,  LIU Jiajun (Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN) ,  WANG Chunxia (Inst. Semiconductors, CAS, Beijing, CHN) ,  CHEN Hongda (Inst. Semiconductors, CAS, Beijing, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6880  ページ： 68800Q.1-68800Q.11  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平面導波路のコア層としてのSiO₂/TiO₂膜をゾル-ゲル溶液の浸漬塗装によって作製し,続いて,この平面導波路から,イッテルビウムファイバレーザを用いたレーザ直接描画とエッチングとによってSiO₂/TiO₂ストライプ型光導波路を作製した。多孔質SiO₂/TiO₂ゾル-ゲル膜はレーザ照射によって収縮し,凹面溝が形成した。照射部分の屈折率は増加し化学エッチング率が減少した。その後,加熱すると導波路の幅が狭くなった。非照射部分を化学エッチングで除去することによってストライプ導波路が完成した。ストライプ導波路の最小幅は最終的に25μmとなり,波長1550nmにおける伝送損失は1.7dB/cmであった。

シソーラス用語： *光導波路 ,  平面導波路 ,  *二酸化ケイ素 ,  酸化チタン ,  誘電体薄膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  浸漬塗装 ,  ファイバレーザ ,  レーザ照射 ,  パターン形成 ,  屈折率 ,  *エッチング ,  伝送損失 ,  赤外レーザ ,  光通信
準シソーラス用語： *ストライプ型光導波路 ,  *レーザ直接描画 ,  *二酸化チタン

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光導波路 ,  作製 ,  SiO2 ,  TiO2 ,  ゾル-ゲル膜 ,  レーザ直接描画