文献

J-GLOBAL ID：200902215364023012   整理番号：09A0201314

パルス放電プラズマCVDによって作製された多孔質カーボン膜電極

Porous carbon film electrodes prepared by pulsed discharge plasma CVD

著者 (5件)： NODA Mikio (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  YUKAWA Hiroyuki (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  MATSUSHIMA Masahiro (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  UCHIDA Hideo (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  UMENO Masayoshi (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 18  号： 2-3  ページ： 426-428  発行年： 2009年02月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔質構造の炭素皮膜をパルス放電(PD)プラズマ化学蒸着(CVD)法で蒸着した。プラズマは,全圧約50Torrで,H₂-C₂H₂ガス混合中のPDで発生させた。プラズマの近くにAl基板を設置した。6水和硝酸コバルトと9水和硝酸鉄から合成したCo-Fe複合膜を基板に蒸着して,多孔質構造を形成するための触媒に使用した。パルス放電の周波数とデューティ比は800Hzと20%,析出時間は10min,基板温度は約210°Cとした。多くの細孔と繊維構造がSEMで観察された。透過電子顕微鏡検査(TEM)で,サイズが約0.05μmの小粒が観察された。黒鉛状構造が高解像度TEMで小粒内に観察された。皮膜のラマンスペクトルでは,DとGの2つの広いピークが1350と1600cm-1の付近に認められた。DCパルス電圧を加えた後の遷移電流から計算した,皮膜のキャパシタンスと抵抗は,それぞれ32μF/cm²と315Ω/cm²であった。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭素電極 ,  炭素材 ,  鉱物合成 ,  *プラズマCVD ,  遷移金属触媒 ,  コバルト ,  鉄 ,  複合膜 ,  蒸着膜 ,  ナノ構造 ,  電気的性質 ,  パルス放電 ,  *多孔質電極

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  電解装置  (XE02030E)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス放電 ,  プラズマCVD ,  作製 ,  多孔質 ,  カーボン ,  膜電極