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J-GLOBAL ID:200902216146682485   整理番号:08A0768273

下水中のキシレン,フェノール,アクリロニトリルの超音波による分解

Degradation of Xylene, Phenol and Acrylonitrile in Wastewater by Ultrasonic Radiation Process
著者 (4件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: 305-308  発行年: 2007年 
JST資料番号: C2013A  ISSN: 1006-1878  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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キシレン,アクリロニトリル及びフェノールを含む溶液を周波数20kHzの超音波で処理した。その結果,キシレン初期濃度27.6mg/L,H2O2濃度1.68g/L,水温25°C,超音波強度141.32W/cm2,照射時間60分のとき,キシレンの分解率は99.20%に達した。アクリロニトリル初期濃度100mg/L,O2流量15mL/min,水温28°C,超音波強度141.32W/cm2,照射時間30分のとき,アクリロニトリルの分解率は98.20%に達した。フェノール初期濃度20.0mg/L,H2O2質量濃度1.50g/L,FeSO4質量濃度0.22g/L,水温28°C,超音波強度48.92W/cm2,照射時間40分のとき,フェノールの分解率は99.81%に達した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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分類 (1件):
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下水,廃水の物理的処理 

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