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J-GLOBAL ID:200902217047237743   整理番号:09A0941097

能動スクリーンプラズマ窒化の基本的機構

On the fundamental mechanisms of active screen plasma nitriding
著者 (2件):
資料名:
巻: 84  号:ページ: 321-325  発行年: 2009年09月18日 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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在来のDCプラズマ処理の窒化機構は広く研究され議論されてきたが,これまで一般的な合意には達していない。スパッタリングと再蒸着理論が最も受入れられているが,この機構が実行可能としても,その窒化効果への寄与は未だ疑問である。さらに,新能動スクリーンプラズマ窒化技術によって,スパッタリングが大きな役割を演じるとは考えられない浮遊電位での試料処理に成功した。それ故,能動スクリーン炉(補助陰極)の陰極メッシュからスパッタされ,処理試料上に蒸着された材料が窒素の質量移動にかかわっていると提案した。この移動材料により為された寄与が本報告の注意の焦点である。処理試料の硬化効果は蒸着層と相当の相関を示し,この蒸着された材料のXRD解析は,恐らくFeNおよびFexNと思われるピークを生じた。この発見は,処理された基板上での窒化鉄の蒸着とそれに続く分解が,能動スクリーン実験装置において為されるプラズマ窒化処理への重要な機構であることを支持している。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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表面硬化熱処理  ,  プラズマ応用 
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