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J-GLOBAL ID:200902217201910162   整理番号:07A0834156

インコヒーレント光源を用いるHF/H2O2溶液中光エッチングによる多孔質シリコン形成

Porous Silicon Formation by Photoetching in HF/H2O2 Solution Using Incoherent Light Source
著者 (3件):
資料名:
巻: 46  号: 8A  ページ: 5021-5024  発行年: 2007年08月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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多孔質シリコン(PSi)形成の形成手法を,Xeランプ照明を用...
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 

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