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J-GLOBAL ID：200902217201910162   整理番号：07A0834156

インコヒーレント光源を用いるHF/H₂O₂溶液中光エッチングによる多孔質シリコン形成

Porous Silicon Formation by Photoetching in HF/H₂O₂ Solution Using Incoherent Light Source

著者 (3件)： TOMIOKA Seigo (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  MIYAZAKI Takayuki (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  ADACHI Sadao (Gunma Univ., Gunma, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 8A  ページ： 5021-5024  発行年： 2007年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔質シリコン(PSi)形成の形成手法を,Xeランプ照明を用...

シソーラス用語： インコヒーレント光 ,...
準シソーラス用語： Si基板

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (28件)：

• A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. J. Calcott: J. Appl. Phys.82(1997)909.
• S. Ossicini, L. Pavesi, and F. Priolo: Light Emitting Silicon for Microphotonics (Springer, Berlin, 2003).
• B. Gelloz and N. Koshida: J. Appl. Phys.88(2000)4319.
• J. Sarathy, S. Shih, K. Jung, C. Tsai, K.-H. Li, D.-L. Kwong, J. C. Campbell, S.-L. Yan, and A. J. Bard: Appl. Phys. Lett.60(1992)1532.
• N. Noguchi and I. Suemune: Appl. Phys. Lett.62(1993)1429.

タイトルに関連する用語 (6件)： インコヒーレント光 ,  HF ,  H2O2 ,  溶液 ,  光エッチング ,  多孔質シリコン