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J-GLOBAL ID：200902217559939669   整理番号：03A0204266

プラズマ反応器における粒子の迅速成長の間の粒子の電荷分布の変化

The changes in particle charge distribution during rapid growth of particles in the plasma reactor.

著者 (6件)： KIM K-S (Kangwon National Univ., Kangwon-Do, KOR) ,  KIM D-J (Kangwon National Univ., Kangwon-Do, KOR) ,  YOON J-H (Kangwon National Univ., Kangwon-Do, KOR) ,  PARK J Y (Hallym Univ., Kangwon-Do, KOR) ,  WATANABE Y (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SHIRATANI M (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 257  号： 2  ページ： 195-207  発行年： 2003年01月15日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々のプロセス条件(単量体の質量生成速度,初期電子濃度,単量...

シソーラス用語： *コロイド ,...
準シソーラス用語： Gauss分布 ,...

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分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  電離現象  (BJ02100Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ反応器 ,  成長 ,  電荷分布