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J-GLOBAL ID：200902218262628008   整理番号：06A0943381

フォトマスク転移法を用いて製作した自己形成導波路光学的ピン

Self-Written Waveguide Optical Pin Fabricated Using Photomask Transfer Method

著者 (5件)： HANAJIMA Hiroshi (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  OBATA Yusuke (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  OZAWA Hideaki (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  KANDA Masahiro (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  MIKAMI Osamu (Tokai Univ., Kanagawa, JPN)
資料名： IEEE Photonics Technology Letters  (IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 18  号： 17/20  ページ： 2020-2022  発行年： 2006年09月01日 
JST資料番号： T0721A  ISSN： 1041-1135  CODEN： IPTLEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトマスク転移法と端面に45度の鏡面を用いて光素子上に直接...

シソーラス用語： フォトマスク ,...
準シソーラス用語： 光相互接続 ,...

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分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (5件)： フォトマスク ,  製作 ,  自己形成 ,  導波路 ,  光学