文献

J-GLOBAL ID：200902218385322396   整理番号：09A0587972

質量分析によるダスト化残留指紋中の薬物及びその代謝産物の検出

Detection of drugs and their metabolites in dusted latent fingermarks by mass spectrometry

著者 (4件)： ROWELL Frederick (ROAR Particles Ltd, County Durham, GBR) ,  ROWELL Frederick (Univ. Sunderland, Sunderland, GBR) ,  HUDSON Katherine (ROAR Particles Ltd, County Durham, GBR) ,  SEVIOUR John (ROAR Particles Ltd, County Durham, GBR)
資料名： Analyst  (Analyst)
巻： 134  号： 4  ページ： 701-707  発行年： 2009年04月 
JST資料番号： A0392A  ISSN： 0003-2654  CODEN： ANALAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正イオンリフレクトロンモードの表面支援レーザ脱離/イオン化飛行時間型質量分析(SALDI-TOF-MS)を適用し,標準マトリックス増強剤2,5-ジヒドロキシ安息香酸に相当するカーボンブラックを含む疎水性シリカダスト試薬を用い,残留指紋中の薬物及びその代謝産物を検出した。この方法は指接触残留物と親薬物及びその代謝産物両方の違法薬物の検出に有用であった。親薬物及びその代謝産物の存在は特異フラグメンテーションパターンから確認可能であり,指紋上の化合物の分布を市販イメージングソフトウェアで実証した。

シソーラス用語： *MALDI-TOF MS ,  指紋 ,  *薬物 ,  薬物乱用 ,  薬剤分析 ,  代謝産物 ,  カーボンブラック ,  疎水性 ,  フラグメンテーション ,  イオン ,  残留分析 ,  分析試薬 ,  塵埃 ,  芳香族カルボン酸 ,  多価フェノール ,  ヒドロキシ酸 ,  二酸化ケイ素 ,  *飛行時間法 ,  SALDI-MS ,  フラグメントイオン ,  汚染物質 ,  大気汚染物質 ,  物質
準シソーラス用語： シリカ

分類 (2件)： 質量分析  (CC03013N) ,  薬物の分析  (GV01040Q)

物質索引 (1件)： 2,5-ジヒドロキシ安息香酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 質量分析 ,  ダスト ,  残留 ,  指紋 ,  薬物 ,  代謝産物