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J-GLOBAL ID：200902219721721110   整理番号：09A0205253

フェムト秒レーザー加工した自己組織化単分子膜の光和周波顕微分光による研究

著者 (6件)： 中山仁 (北陸先端科学技術大学院大) ,  EL BASATY Ahmed Bakr (北陸先端科学技術大学院大) ,  宮内良広 (北陸先端科学技術大学院大) ,  宮内良広 (JST-CREST) ,  水谷五郎 (北陸先端科学技術大学院大) ,  水谷五郎 (JST-CREST)
資料名： 光物性研究会論文集  (Proceedings of the Symposium of Association for Condensed Matter Photophysics, Japan)
巻： 19th  ページ： 306-309  発行年： 2008年 
JST資料番号： L3956A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 自己組織化単分子膜(SAM)を対象として,フェムト秒レーザ光を用いて表面に親水性/疎水性のパターンを描画し,それがSAMに与える影響を和周波発生分光により調べた。SAMを形成しているオクタデシルトリエトキシシラン(CH₃(CH₂)₁₇Si(OC₅H₅)₃)(OTS)分子のアルキル鎖のみをフェムト秒レーザで除去した場合はSAMの分子配向を著しく乱すことはなかった。しかしSAMの2次元シロキサンネットワークを切断した場合はSAMにゴーシュ欠陥が多数発生した。

シソーラス用語： 自己組織系 ,  単分子層 ,  *レーザ加工 ,  親水性 ,  疎水性 ,  *パターン形成 ,  和周波数発生 ,  レーザ分光法 ,  分子配向 ,  噴流 ,  回路パターン形成 ,  *インクジェット印刷 ,  パルスレーザ照射 ,  半導体プロセス ,  *フェムト秒レーザ
準シソーラス用語： *自己組織化単分子膜

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： オクタデシルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒レーザー加工 ,  自己組織化単分子膜 ,  顕微分光 ,  研究