これからの表面処理  TiO<sub>2</sub>系透明導電体のスパッタ成膜技術

一杉太郎; 一杉太郎; 山田直臣; 長谷川哲也; 長谷川哲也

文献

J-GLOBAL ID：200902220126245078 整理番号：07A1196242

これからの表面処理 TiO₂系透明導電体のスパッタ成膜技術

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=07A1196242&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A1196242&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 58 号： 12 ページ： 798-803 発行年： 2007年12月01日
JST資料番号： G0441B ISSN： 0915-1869 CODEN： HYGIEX 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

次の項目に分けて,ガラス上に成膜したアナターゼ型のNbドープ...

,...
,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A1196242&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441B") }}

ガラスの製造 , 酸化物薄膜

引用文献 (26件)：

1) 一杉太郎;透明導電膜の技術(オーム社, 2006).
2) S. Lany and A. Zunger ; Phys. Rev. Lett., 98, 045501 (2007).
3) J. E. Madvedeva ; Phys. Rev. Lett., 97, 086401 (2006).
4) 中山智弘;日本セラミックス協会誌(セラミックス), 42, 7 (2007).
5) 一杉太郎;透明導電膜の技術, p.173 (オーム社, 2006).

, , ,

前のページに戻る

これからの表面処理 TiO2系透明導電体のスパッタ成膜技術

これからの表面処理 TiO₂系透明導電体のスパッタ成膜技術