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J-GLOBAL ID：200902220330426421   整理番号：05A0007628

高周波プラズマCVD法により成膜したa-CNx:H薄膜のEL素子への応用

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著者 (4件)：
柳佳宏

柳佳宏 について

(東京電機大 工)

東京電機大 工 について

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醍醐佳明

醍醐佳明 について

(東京電機大 工)

東京電機大 工 について

, 
篠田宏之

篠田宏之 について

(東京電機大 工)

東京電機大 工 について

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六倉信喜

六倉信喜 について

(東京電機大 工)

東京電機大 工 について


資料名：
21世紀連合シンポジウム論文集

21世紀連合シンポジウム論文集 について


巻： 3rd  ページ： 75-76  発行年： 2004年11月20日 
JST資料番号： L2435B  ISSN： 1347-9717  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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水素化非晶質窒化炭素(a-CNx:H)膜は室温で強いフォトル...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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エレクトロルミネセンス

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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窒化炭素

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分類 (2件)：
分類
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発光素子 
(NC03082G)

発光素子 について

,  その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

その他の無機化合物の薄膜 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
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高周波

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プラズマCVD法

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成膜

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薄膜

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EL素子

EL素子 について

, 
応用

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