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J-GLOBAL ID：200902220382920327   整理番号：03A0659279

シリケート添加による新規PZTN薄膜の作製

著者 (5件)： 木島健 (セイコーエプソン) ,  浜田泰彰 (セイコーエプソン) ,  大橋幸司 (セイコーエプソン) ,  名取栄治 (セイコーエプソン) ,  下田達也 (セイコーエプソン)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 64th  号： 2  ページ： 500  発行年： 2003年08月30日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 鉛化合物 ,...

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分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリケート ,  薄膜 ,  作製