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J-GLOBAL ID：200902220876236305   整理番号：09A0173414

光塩基発生剤と塩基増幅基を持つポリ(オレフィンスルホン)の光誘起アンジッピング解重合

Photoinduced Unzipping Depolymerization of Poly(olefin sulfone)s Possessing Photobase Generator and Base Amplifier

著者 (2件)： SASAKI Takeo (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  YAGUCHI Hiroaki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 47  号： 2  ページ： 602-613  発行年： 2009年01月15日 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N,N-ジメチル-3-ブテノイルアミドまたは4-(N-アリルカルバモイル)オキシ-N-[[(9-フルオレニルメチル)オキシ]カルボニル]ピペリジンをt-ブチルヒドロペルオキシド存在下に-13°CでSO₂と反応させ,対応した塩基増幅基を持つ1:1交互共重合体ポリ(オレフィンスルホン)を合成した。光塩基発生剤1,3-ビス[4-[1-(2-ニトロフェニル)エチルオキシ]カルボニル]ピペリジン-4-イル]トリメチレンを添加して254nmUV光照射すると光塩基から生成した塩基1,3-ビス(ピペリジン-4-イル)トリメチレンにより,ポリ(オレフィンスルホン)はアンジッピング解重合した。解重合速度は塩基増幅性基を持つポリ(オレフィンスルホン)が速かった。

シソーラス用語： 化学合成 ,  交互共重合体 ,  交互共重合 ,  二酸化硫黄 ,  光重合 ,  解重合 ,  *光塩基発生剤 ,  塩基性 ,  ポリスルホン ,  反応速度 ,  光化学反応 ,  分子構造 ,  陽子磁気共鳴 ,  置換基効果 ,  脂肪族化合物 ,  ヒドロポリオキシド

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (4件)： N,N-ジメチル-3-ブテンアミド ,  tert-ブチルヒドロペルオキシド ,  アリルカルバミド酸1-(9H-フルオレン-9-イルメトキシカルボニル)-4-ピペリジニル ,  4,4′-トリメチレンビス(ピペリジン-1-カルボン酸α-メチル-2-ニトロベンジル)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光塩基発生剤 ,  塩基 ,  増幅 ,  光誘起 ,  解重合