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J-GLOBAL ID：200902220989890117   整理番号：09A0896621

紫外光照射過程による高温液晶ポリマ膜上での表面金属化

Surface Metallization on High Temperature Liquid-Crystal-Polymer Film by UV-Irradiation Process

著者 (6件)： SUGIYAMA Takeharu (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  IIMORI Yosuke (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  BABA Kunihiro (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  WATANABE Mitsuhiro (Kanto Gakuin Univ., Yokosuka, JPN) ,  HONMA Hideo (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  HONMA Hideo (Kanto Gakuin Univ., Yokosuka, JPN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 156  号： 9  ページ： D360-D363  発行年： 2009年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販の高温液晶ポリマ(LCP)膜(Vectra,OC25,厚さ25μm,Kuraray Co.,Ltd.製)を大気中,紫外光で処理することにより,LCP膜表面にナノメータスケールでの親水性表面粗さを創出した。この紫外光処理したLCP膜上に無電解メッキ法を用い,Cu-Ni-P膜を形成した。Cu-Ni-P膜の接着強さは0.8kN/mであった。このような高接着性は集積金属膜とLCP膜の界面がナノメータスケール粗さであるためと考えられる。Cu-Ni-P膜を形成することによりLCP膜上には銅の回路パターンを作製することができ,その特性は種々の信頼性試験に耐えるものであった。

シソーラス用語： *高分子液晶 ,  *無電解めっき ,  *表面改質 ,  接着強さ ,  *薄膜 ,  *銅 ,  *ニッケル ,  ナノ構造 ,  高分子膜 ,  紫外線照射
準シソーラス用語： *高分子液晶膜

分類 (3件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  液晶一般  (BK03010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 紫外光照射 ,  過程 ,  液晶 ,  ポリマ膜 ,  金属化