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J-GLOBAL ID：200902221913518240   整理番号：06A0406058

土壌残留物からひ素の浸出に対するpH,きっ抗アニオン,NOMの影響

Effect of pH, competitive anions and NOM on the leaching of arsenic from solid residuals

著者 (3件)： GHOSH Amlan (Dep. of Chemical and Environmental Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ-85721, USA) ,  SAEZ A. Eduardo (Dep. of Chemical and Environmental Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ-85721, USA) ,  ELA Wendell (Dep. of Chemical and Environmental Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ-85721, USA)
資料名： Science of the Total Environment  (Science of the Total Environment)
巻： 363  号： 1-3  ページ： 46-59  発行年： 2006年06月15日 
JST資料番号： C0501B  ISSN： 0048-9697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2006年の新しいひ素MCL(最大汚染基準)の実施は毎年,推...

シソーラス用語： *ヒ素 ,...

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分類 (3件)： 土壌汚染  (FB04100T) ,  土壌管理  (FB04070J) ,  重金属とその化合物一般  (SB05021R)

タイトルに関連する用語 (8件)： 土壌 ,  残留物 ,  ひ素 ,  浸出 ,  pH ,  きっ抗 ,  アニオン ,  NOM