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J-GLOBAL ID：200902222312744567   整理番号：05A0543117

表面開始原子移動ラジカル重合による良く制御された高密度高分子ブラシで被覆された単分散シリカ粒子の合成

Synthesis of Monodisperse Silica Particles Coated with Well-Defined, High-Density Polymer Brushes by Surface-Initiated Atom Transfer Radical Polymerization

著者 (5件)： OHNO Kohji (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MORINAGA Takashi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KOH Kyoungmoo (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUJII Yoshinobu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  FUKUDA Takeshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 38  号： 6  ページ： 2137-2142  発行年： 2005年03月22日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子移動ラジカル重合(ATRP)開始サイトを含むシランカップ...

シソーラス用語： *リビングラジカル重合 ,...
準シソーラス用語： シリカ

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分類 (1件)： 単独重合  (CG04020S)

物質索引 (2件)： メタクリル酸メチル ,  2-ブロモイソ酪酸6-(トリエトキシシリル)ヘキシル

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面開始原子移動ラジカル重合 ,  高密度 ,  高分子ブラシ ,  単分散 ,  シリカ粒子