抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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規則配置された溝による撹乱を受けた円管内乱流の,流れの変形と回復過程を調査した。粗さ要素として直径80mmの円管内壁の一部区間に溝列を設置し,溝列部とその終端部から十分下流まで測定した。溝は3mm四方の正方形形状で,ピッチ比2(d形粗面に相当)で配置した。溝列の長さは半径の7.7倍,溝数は52で,実験は管径レイノルズ数6×10
4の一定で行った。溝列部分で表面摩擦抵抗が増加するため,溝列部と直後では流れは大きく変化する。更にその下流では十分発達した流れに漸近していき,緩やかに元の流れに回復する。(著者抄録)