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J-GLOBAL ID:200902222428543305   整理番号:09A0621729

規則配置された溝による撹乱を受けた円管内乱流

著者 (3件):
資料名:
巻: 47th  ページ: 223-224  発行年: 2009年02月26日 
JST資料番号: L0015A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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規則配置された溝による撹乱を受けた円管内乱流の,流れの変形と回復過程を調査した。粗さ要素として直径80mmの円管内壁の一部区間に溝列を設置し,溝列部とその終端部から十分下流まで測定した。溝は3mm四方の正方形形状で,ピッチ比2(d形粗面に相当)で配置した。溝列の長さは半径の7.7倍,溝数は52で,実験は管径レイノルズ数6×104の一定で行った。溝列部分で表面摩擦抵抗が増加するため,溝列部と直後では流れは大きく変化する。更にその下流では十分発達した流れに漸近していき,緩やかに元の流れに回復する。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件):
分類
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管内流  ,  層流,乱流,境界層 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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