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J-GLOBAL ID：200902222859071141   整理番号：06A1026865

光アレルギーの発症機序と対策

著者 (1件)： 戸倉新樹 (産業医大 医 皮膚科)
資料名： アレルギー  (Japanese Journal of Allergology)
巻： 55  号： 11  ページ： 1382-1389  発行年： 2006年11月30日 
JST資料番号： Z0644A  ISSN： 0021-4884  CODEN： ARERAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光アレルギー機序で発症する疾患には,光接触皮膚炎,薬剤性光線...

シソーラス用語： 抗原 ,...
準シソーラス用語： 非ステロイド系消炎薬 ,...

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分類 (2件)： 免疫性疾患・アレルギー性疾患一般  (GD04010C) ,  皮膚の臨床医学一般  (GF01030J)

物質索引 (4件)： ケトプロフェン ,  スプロフェン ,  チリソロール ,  メチクラン

引用文献 (14件)：

• 1) 戸倉新樹. 光線過敏型薬疹. 最新皮膚科学体系. 中山書店. (2005) vol.5, p.75-82.
• 2) TOKURA Y. Genetic control of contact photosensitivity to tetrachlorosalicylanilide. I. Preferential activation of suppressor T cells in low responder H-2^k mice. J Invest Dermatol. (1990) vol.94, p.471-476.
• 3) TOKURA Y. Quinolone-photoconjugated MHC class II-bearing peptides with lysine are antigenic for T cells mediating murine quinolone photoallergy. J Invest Dermatol. (2001) vol.117, p.1206-1211.
• 4) OHSHIMA A. Formation of antigenic quinolone photoadducts on Langerhans cells initiates photoallergy to systemically administered quinolone in mice. J Invest Dermatol. (2000) vol.114, p.569-575.
• 5) TOKURA Y. Sparfloxacin phototoxicity : potential photoaugmentation by ultrabiolet A and B sources. Arch Dermatol Res. (1996) vol.288, p.45-50.

タイトルに関連する用語 (3件)： 光アレルギー ,  発症機序 ,  対策