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J-GLOBAL ID：200902223097896381   整理番号：09A1219322

ポリスチレンのレーザ誘起表面改質

Laser-induced surface modification of polystyrene

著者 (2件)： RYTLEWSKI Piotr (Dep. of Materials Engineering, Kazimierz Wielki Univ., ul. Chodkiewicza 30, 85-064 Bydgoszcz, POL) ,  ZENKIEWICZ Marian (Dep. of Materials Engineering, Kazimierz Wielki Univ., ul. Chodkiewicza 30, 85-064 Bydgoszcz, POL)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 3  ページ： 857-861  発行年： 2009年11月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArFエキシマレーザ照射によってポリスチレン(PS)に誘起された修飾について研究した。材料のアブレーションしきい値以下のエネルギーで異なる数のレーザパルスを照射いた。PS表面層の化学組成の変化をX線光電子分光(XPS)で調べた。高分子表面のモルフォロジーの変化の解析は原子間力顕微鏡(AFM)で行なった。試験液体(水とジヨードメタン)の接触角はゴニオメーターで測定し,表面エネルギー(SE)はOwens-Wendt法で計算した。表面エネルギーの変化は主にレーザ照射によって生じた表面粗さに影響され,表面酸化はこの変化に大きくは寄与していないことが分かった。SEの増加は大部分その分散成分によっている。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *パルスレーザ照射 ,  *ポリスチレン ,  *表面改質 ,  エキシマレーザ ,  化学組成 ,  X線光電子スペクトル ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  *表面エネルギー ,  接触角 ,  *濡れ ,  表面粗さ ,  ArFレーザ
準シソーラス用語： ArFエキシマレーザ

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (3件)： ポリスチレン ,  レーザ誘起 ,  表面改質