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J-GLOBAL ID：200902223746912979   整理番号：05A0340967

アルゴンプラズマ及びオゾンへの暴露によるYBa₂Cu₃O_y薄膜の改質 構造研究

Modification of YBa₂Cu₃O_y Thin Films by Exposure to Argon Plasma and Ozone: A Structural Study

著者 (5件)： MOHAMED Syed B. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  OYANAGI Hiroyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  FUKANO Atsuyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  SATO Hiroshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  AKOH Hiroshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44  号： 3  ページ： 1243-1247  発行年： 2005年03月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： YBa₂Cu₃O...

シソーラス用語： *高温超伝導体 ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング

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分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

引用文献 (19件)：

• 1) J. B. Barner, C. T. Rogers, A. Inam, R. Ramesh and S. Bersey: Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 742.
• 2) T. Hashimoto, M. Sagoi, Y. Mizutani, J. Yoshida and K. Mizushima: Appl. Phys. Lett. 60 (1991) 1756.
• 3) H. Sato, H. Akoh and S. Takada: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 1286.
• 4) M. Maruyama, K. Yoshida, T. Furutani, Y. Inagaki, M. Horibe, M. Inoue, A. Fujimaki and H. Hayakawa: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) L205.
• 5) B. H. Moeckly: Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 790.

タイトルに関連する用語 (7件)： アルゴン ,  プラズマ ,  オゾン ,  暴露 ,  薄膜 ,  改質 ,  研究