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J-GLOBAL ID：200902224557470112   整理番号：05A0994164

下水の一次処理での化粧品成分および薬物の除去

Removal of cosmetic ingredients and pharmaceuticals in sewage primary treatment

著者 (3件)： CARBALLA Marta (School of Engineering, Dep. of Chemical Engineering, Univ. of Santiago de Compostela, E-15782 Santiago de Compostela ...) ,  OMIL Francisco (School of Engineering, Dep. of Chemical Engineering, Univ. of Santiago de Compostela, E-15782 Santiago de Compostela ...) ,  LEMA Juan M. (School of Engineering, Dep. of Chemical Engineering, Univ. of Santiago de Compostela, E-15782 Santiago de Compostela ...)
資料名： Water Research  (Water Research)
巻： 39  号： 19  ページ： 4790-4796  発行年： 2005年11月 
JST資料番号： B0760A  ISSN： 0043-1354  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 下水中に存在する数種の選択した薬物および衛生用品(PPCP)...

シソーラス用語： *廃水処理 ,...
準シソーラス用語： 親油性

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分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (7件)： ガラキソリド ,  トナリド ,  カルバマゼピン ,  イブプロフェン ,  ナプロキセン ,  ジクロフェナク ,  ジアゼパム

タイトルに関連する用語 (4件)： 下水 ,  一次処理 ,  化粧品 ,  薬物