文献

J-GLOBAL ID：200902225062605646   整理番号：07A0367183

パルスレーザによって発生するリチウムプラズマにおける強制再結合過程を用いる極端紫外光源

Extreme ultraviolet source using a forced recombination process in lithium plasma generated by a pulsed laser

著者 (6件)： NAGANO Akihisa (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN) ,  INOUE Takahiro (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN) ,  NICA Petru-edward (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN) ,  AMANO Sho (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN) ,  MIYAMOTO Shuji (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN) ,  MOCHIZUKI Takayasu (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 90  号： 15  ページ： 151502-151502-3  発行年： 2007年04月09日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タンパを持つ極端紫外光源を調べた。このターゲットスキームは,...

シソーラス用語： *紫外光源 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0367183&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

分類 (1件)： 光源,照明器具  (NB12020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ ,  リチウム ,  プラズマ ,  強制 ,  極端紫外光源