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J-GLOBAL ID：200902225329226674   整理番号：05A0924323

超高速LSIの高性能化のための材料技術の最前線-II 高機能ひずみSi-SGOIウェーハにおける内部欠陥の微細構造解析

著者 (7件)： 井誠一郎 (九大 産学連携セ) ,  水口隆 (九大 大学院) ,  池田賢一 (九大 大学院総合理工学研究院) ,  中島英治 (九大 大学院総合理工学研究院) ,  中島寛 (九大 産学連携セ) ,  二宮正晴 (三菱住友シリコン) ,  中前正彦 (三菱住友シリコン)
資料名： 日本金属学会講演概要  (Collected Abstracts of the Meeting of the Japan Institute Metals)
巻： 137th  ページ： 128  発行年： 2005年09月28日 
JST資料番号： S0988A  ISSN： 1342-5730  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *超LSI ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (9件)： LSI ,  高性能化 ,  ひずみ ,  Si ,  SGOI ,  ウェーハ ,  内部欠陥 ,  微細構造 ,  解析