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J-GLOBAL ID:200902226696137757   整理番号:09A0447345

X線リソグラフィー法を用いたX線Talbot干渉計用のX線格子の作製

Fabrication of X-Ray Gratings Using X-Ray Lithography Technique for X-Ray Talbot Interferometer
著者 (4件):
資料名:
巻: 156  号:ページ: H299-H302  発行年: 2009年 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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低吸収物質のX線位相像の撮像に用いるX線Talbot干渉計用のX線格子をX線リソグラフィー法と電着法を用いて作製した。格子は6インチSiウエハの上に電着により堆積した,ピッチ幅5.3μm,高さ30μmのAuのライン/間隙パターンからなる。格子の有効面積は100×100mm2である。Au電着のシード層にはCrを用い,洗浄には表面張力によってAuライン同士がくっつかないようにCO2超臨界流体を用いた。この格子を用いてマウスの軟組織と高密度組織のコントラストの良い位相像を得ることができた。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
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X線技術  ,  化学一般その他 
タイトルに関連する用語 (5件):
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