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J-GLOBAL ID：200902227180303916   整理番号：05A0908533

γ線照射によるポリ(N,N′-メチレンビスアクリルアミド-co-4-ビニルピリジン)ミクロゲルの合成

SYNTHESIS OF POLY(N,N′-METHYLENEBISACRYLAMIDE-co-4-VINYLPYRIDINE) MICROGELS BY γ-RAY IRRADIATION

著者 (3件)： CHEN Qingde (Peking Univ., Beijing) ,  SHEN Xinghai (Peking Univ., Beijing) ,  GAO Hongcheng (Peking Univ., Beijing)
資料名： Gaofenzi Xuebao  (Gaofenzi Xuebao)
号： 1  ページ： 60-65  発行年： 2005年02月 
JST資料番号： W0847A  ISSN： 1000-3304  CODEN： GAXUE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： γ線照射技術で,希薄な水溶液でN,N′-メチレンビスアクリルアミド(Bis)と4-ビニルピリジン(4-VP)の無界面活性剤エマルション共重合反応を行い,平均流体力学半径(R_h)が56~152nmのミクロゲル系を得た。赤外スペクトル,熱分析,透過型電子顕微鏡でそれを特徴つけた。R_h,吸光度,ゲル分率等を測定して,(Bis-4-VP)共重合体ミクロゲル合成に対するモノマ比率,吸収線量や照射速度の影響を研究した。その結果,ゲルの大きさは吸収線量やモノマの比率を制御することによって変えられる。最後に,ミクロゲルの形成メカニズムについて議論した。

シソーラス用語： *ポリアクリルアミド ,  *P4VP ,  *共重合 ,  共重合体 ,  *γ線照射 ,  放射線重合 ,  *ミクロゲル ,  無乳化剤乳化重合 ,  流体力学的半径 ,  構造解析
準シソーラス用語： ポリN,N′-メチレンビスアクリルアミド

分類 (2件)： 放射線重合  (CG04060K) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： N,N′-メチレンビスアクリルアミド ,  4-ビニルピリジン

タイトルに関連する用語 (5件)： γ線 ,  メチレンビスアクリルアミド ,  CO ,  4-ビニルピリジン ,  ミクロゲル