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J-GLOBAL ID：200902227353293725   整理番号：04A0036360

Siウエハ面の指向成長ZnOナノロッドアレイへのソフト溶液経路; 室温紫外レーザ

Soft Solution Route to Directionally Grown ZnO Nanorod Arrays on Si Wafer; Room-Temperature Ultraviolet Laser

著者 (6件)： CHOY J-H (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  JANG E-S (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  WON J-H (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  CHUNG J-H (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  JANG D-J (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Y-W (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 15  号： 22  ページ： 1911-1914  発行年： 2003年11月17日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 湿式化学法でSiウエハ面に高品質ZnO結晶ナノロッドアレイを...

シソーラス用語： 湿式法 ,...
準シソーラス用語： *平面アレイ ,...

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分類 (3件)： 半導体レーザ  (BD04070L) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (9件)： Siウエハ ,  成長 ,  ZnOナノロッド ,  アレイ ,  ソフト ,  溶液 ,  経路 ,  室温 ,  紫外レーザ