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J-GLOBAL ID：200902227751096107   整理番号：04A0509699

光学フィルタのためのラジオ周波数マグネトロンスパタリングで作製したa-Si:H/SiO₂多層膜

a-Si:H/SiO₂ multilayer films fabricated by radio-frequency magnetron sputtering for optical filters.

著者 (4件)： YODA H (Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN) ,  SHIRAISHI K (Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN) ,  HIRATANI Y (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  HANAIZUMI O (Gunma Univ., Kiryu, JPN)
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 43  号： 17  ページ： 3548-3554  発行年： 2004年06月10日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光通信の分野では,波長分割多重(WDM)技術が広く利用されて...

シソーラス用語： *光学フィルタ ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光学フィルタ ,  ラジオ ,  マグネトロンスパタリング ,  作製 ,  Si ,  SiO2 ,  多層膜