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J-GLOBAL ID：200902228173654718   整理番号：06A0824457

ニッケルめっき膜の引張応力に及ぼす共析水素による2-ブチン-1,4-ジオール水素化の影響

Effects of Hydrogenation of 2-butyne-1,4-diol by the Co-deposited Hydrogen on the Internal Tensile Stress in Nickel Deposits during Electroplating

著者 (4件)： 津留豊 (九州工大 工) ,  徳田朋稔 (九州工大 工) ,  国崎賢治 (九州工大 工) ,  稲森秀一 (九州工大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 57  号： 10  ページ： 727-732  発行年： 2006年10月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ワットタイプニッケルめっきにおける水素発生および2-ブチン-...

シソーラス用語： *ニッケルめっき ,...
準シソーラス用語： ガス状態 ,...

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分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

物質索引 (1件)： 2-ブチン-1,4-ジオール

引用文献 (23件)：

• 表面技術協会. 金属表面技術便覧. 1987, 275
• LIN, Shih-Min. Plat. and Surf. Fin. 1991, 78, 70
• SAFRANEK, W. H. The Properties and Electrodeposited Metal and Alloys. 1986, 303
• ROTH, C. C. J. Electrochem Soc. 1953, 100, 553
• ARMYANOV, S. J. Electrochem Soc. 1992, 139, 3454

タイトルに関連する用語 (8件)： ニッケル ,  めっき膜 ,  引張応力 ,  共析 ,  水素 ,  2-ブチン ,  ジオール ,  水素化