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J-GLOBAL ID：200902229036796099   整理番号：09A1218201

CoFeAlSi-MgOグラニュラ膜のトンネル磁気抵抗

Tunnel Magnetoresistance of CoFeAlSi-MgO Granular films

著者 (5件)： SATO K. (Fac. of Engineering, Mie Univ.) ,  FUJIWARA Y. (Fac. of Engineering, Mie Univ.) ,  KATO T. (Graduate School of Engineering, Nagoya Univ.) ,  JIMBO M. (Fac. of Engineering, Daido Univ.) ,  KOBAYASHI T. (Fac. of Engineering, Mie Univ.)
資料名： Journal of the Magnetics Society of Japan  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 33  号： 6_2  ページ： 455-458 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 1882-2924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CoFeAlSi(CFAS)を使ったグラニュラ膜のトンネル磁気抵抗(TMR)効果について調べた。グラニュラ膜は,MgOバッファ,CFAS,および保護MgO層で構成されている。連続構造から粒状構造への構造変化は,CFASの呼び厚に従って,抵抗率としてはっきりと現れた。加熱基板上で制作された試料は,大きなMR比を示し,厚さ2.0nmのCFASに対して最大MR比5.5%となった。X線光電子分光法の深さプロファイルから,Feは顆粒表面で優先的に酸化されるが,Coはそうでないことがわかる。TEM顕微鏡写真は,200°Cの加熱基板上で制作された試料に対し,直径が3.0-5.0nmの,比較的均一な顆粒を示している。しかし,L2₁配位構造は,基板温度が低いため確認されなかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *磁気抵抗効果 ,  酸化マグネシウム ,  鉄 ,  コバルト ,  アルミニウム ,  ケイ素 ,  透過型電子顕微鏡 ,  深さプロフィル ,  X線光電子分光法 ,  トンネル磁気抵抗効果 ,  *グラニュラー薄膜
準シソーラス用語： *グラニュラ膜

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (11件)：

• 1) S. Mitani, S. Takahashi, K. Takanashi, K. Yakushiji, S. Maekawa, and H. Fujimori: Phys. Rev. Lett., 81, 2799 (1998).
• 2) K. Yakushiji, S. Mitani, K. Takanashi, S. Takahashi, S. Maekawa, H. Imamura, and H. Fujimori: Appl. Phys. Lett., 78, 515 (2001).
• 3) K. Yakushiji, F. Ernult, H. Imamura, K. Yamane, S. Mitani, T. Takanashi, S. Takahashi, S. Maekawa, and H. Fujimori: Nature Mater., 4, 57 (2005).
• 4) K. Yakushiji, M. Matsuura, S. Mitani, T. Takanashi, and H. Fujimori: J. Magn. Magn. Mater., 303, 355 (2006).
• 5) J. Inoue, and S. Maekawa: Phys. Rev. B, 53, R11927 (1996).

タイトルに関連する用語 (2件)： グラニュラ膜 ,  トンネル磁気抵抗