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J-GLOBAL ID：200902229199721436   整理番号：08A0657901

超臨界二酸化炭素溶液中の酸化亜鉛薄膜の堆積

Deposition of Zinc Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions

著者 (3件)： KONDOH Eiichi (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN) ,  SASAKI Kenji (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN) ,  NABETANI Yoichi (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 1  号： 6  ページ： 061201.1-061201.3  発行年： 2008年06月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超臨界二酸化炭素溶液中の酸化亜鉛薄膜の堆積を恐らく初めて報告した。超臨界CO₂に酸素と共に亜鉛アセチルアセトナートを溶解し,8~13MPa,230~380°Cで処理した。280°C以上でSi及びサファイア基板上に連続結晶膜を得た。光ルミネセンススペクトル中370nmにおいてバンド端発光を確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *二酸化炭素 ,  酸化亜鉛 ,  *基板 ,  ケイ素 ,  *光ルミネセンス ,  半導体材料 ,  *超臨界二酸化炭素 ,  *サファイア基板 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： 珪素基板

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (16件)：

• KING, J. W. Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 2003, 7, 413
• KONDOH, E. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 3928
• ZONG, Y. Proc. Advanced Metallization Conf. 2004. Material Research Society, PA. 2005, 353
• KONDOH, E. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 5799
• OHDE, H. Chem. Mater. 2004, 16, 4028

タイトルに関連する用語 (4件)： 超臨界二酸化炭素 ,  溶液 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  堆積