文献

J-GLOBAL ID：200902230052959680   整理番号：08A0909767

ゾル-ゲル法で作製したMnドープSnO₂薄膜の室温強磁性

Room temperature ferromagnetism of Mn-doped SnO₂ thin films fabricated by sol-gel method

著者 (10件)： XIAO Yuhua (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  GE Shihui (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  XI Li (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZUO Yalu (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZHOU Xueyun (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZHANG Bangmin (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZHANG Li (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  LI Chengxian ,  HAN Xiufeng (State Key Lab. of Magnetism, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN) ,  WEN Zhenchao (State Key Lab. of Magnetism, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 254  号： 22  ページ： 7459-7463  発行年： 2008年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(111)基板上にスピンコーテイングしたSn_1-xMn_xO₂(x≦0.11)薄膜をゾル-ゲル法で作製した。X線回折から,単相ルチル多結晶構造をxで約0.078まで得られることが明らかになった。格子パラメータの発展とX線光電子分光研究によりSnO₂格子へのMn³⁺カチオンの取り込みを確認した。磁気測定から,全てのSn_1-xMn_xO₂薄膜は室温で強磁性を示し,それらが本質的な特性であることが確認された。磁化データはMn含有量の増加につれMn原子あたりの平均磁気モーメントが減少し,保磁力は増加することを示した。室温強磁性の起源は束縛された磁気ポーラロンのパーコレーションで理解できた。著者らの実験の結果,化学合成による室温強磁性を持つ遷移金属ドープSnO₂ナノ構造作製にゾル-ゲル法が効果的であることを証明した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *マンガン ,  *ドーピング ,  *酸化スズ ,  磁性半導体 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  ルチル型結晶 ,  多結晶 ,  格子定数 ,  X線光電子スペクトル ,  *強磁性 ,  室温 ,  磁化特性 ,  磁気モーメント ,  保磁力 ,  磁気ポーラロン ,  *ナノ構造 ,  *希薄磁性半導体

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル法 ,  作製 ,  Mn ,  ドープ ,  SnO2 ,  薄膜 ,  室温強磁性