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J-GLOBAL ID：200902230605294550   整理番号：04A0344259

SiO₂を添加したHfO₂膜の格子振動スペクトルの変化

著者 (4件)： 富田一行 (東大 大学院工学研究科) ,  喜多浩之 (東大 大学院工学研究科) ,  弓野健太郎 (東大 大学院工学研究科) ,  鳥海明 (東大 大学院工学研究科)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st  号： 2  ページ： 874  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ハフニウム ,...

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分類 (2件)： 結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z) ,  無機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル  (BM08063C)

タイトルに関連する用語 (4件)： SiO2 ,  HfO2 ,  格子振動 ,  スペクトル