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J-GLOBAL ID：200902231238510086   整理番号：05A0425881

放射光X線回折法による歪みSi/SiGe/Si基板(市販)の格子歪み評価(IV)歪みSi層の結晶性評価

著者 (9件)： 冨田直弘 (兵庫県大 大学院) ,  林和樹 (兵庫県大 大学院) ,  安井宏幸 (兵庫県大 大学院) ,  吉田紀子 (兵庫県大 大学院) ,  福田一徳 (兵庫県大 大学院) ,  津坂佳幸 (兵庫県大 大学院) ,  篭島靖 (兵庫県大 大学院) ,  松井純爾 (兵庫県大 大学院) ,  小椋厚志 (明大 理)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 52nd  号： 1  ページ： 439  発行年： 2005年03月29日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素合金 ,...
準シソーラス用語： 歪緩和

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (9件)： 放射光X線回折 ,  歪み ,  Si ,  SiGe ,  Si基板 ,  格子歪み ,  評価 ,  Si層 ,  結晶性