文献

J-GLOBAL ID：200902231686647700   整理番号：04A0043027

鏡面場を利用する電子サイクロトロン共鳴プラズマ法にプラズマ式イオン注入法を併用したa-C:H膜形成法とトライボロジー特性

Synthesis of a-C:H Films by Plasma-Based Ion Implantation Using Electron Cyclotron Resonance Plasma with a Mirror Field and Their Tribological Properties

著者 (9件)： WATANABE T (Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., Yokohama, JPN) ,  YAMASHITA N (Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., Yokohama, JPN) ,  SUZUKI M (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  ISHIHARA M (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  OHANA T (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  YAMAMOTO K (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  TSUDA O (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  TANAKA A (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  KOGA Y (Res. Center for Advanced Carbon Materials, AIST Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名： New Diamond and Frontier Carbon Technology  (New Diamond and Frontier Carbon Technology)
巻： 14  号： 3  ページ： 161-171  発行年： 2004年 
JST資料番号： L1952A  ISSN： 1344-9931  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： けい素基板面にパルス状の高電圧や直流電圧を付与し,標記のEC...

シソーラス用語： *DLC膜 ,...
準シソーラス用語： プラズマ蒸着

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0043027&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L1952A") }}

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 鏡面 ,  電子サイクロトロン共鳴プラズマ ,  プラズマ ,  イオン注入法 ,  併用 ,  膜形成 ,  トライボロジー特性