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J-GLOBAL ID：200902232807744577   整理番号：09A1023800

先端半導体デバイス製造のための超純水 RCモニタによる超純水装置の水質管理 イオン性物質,TOC,H₂O₂による汚染を一分以内に検知

著者 (1件)： 野口幸男 (野村マイクロ・サイエンス)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 19  号： 10  ページ： 7-10  発行年： 2009年10月10日 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超純水装置のリターンラインに設置するRCモニタは,超純水のイオン性物質,TOC,過酸化水素による汚染拡大を防止するためのオンラインモニタである。超純水装置で使用される各種オンラインモニタの概要,水質管理におけるRCモニタの役割等と共に,RCモニタの測定原理を紹介した。応答特性を最優先に設計されたRCモニタは,リターン水の水質管理を初めて可能にし,超純水の安定供給を,より確実にした。RCモニタの使用例では,水質異常の信号を自動バルブ開閉に利用し,リターン水を純水タンクに戻さず,排水に切り換えて,トラブルを未然に防止することなどがある。

シソーラス用語： 半導体素子 ,  *超純水 ,  *水質管理 ,  TOC【炭素】 ,  水素 ,  酸素 ,  過酸化水素 ,  汚染監視 ,  装置 ,  溶存酸素 ,  *監視 ,  オンラインシステム
準シソーラス用語： DO【水質】 ,  H₂O₂ ,  RCモニタ ,  *オンラインモニタリング ,  汚染モニタ ,  超純水装置 ,  半導体デバイス

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  化学プロセスの測定,監視,計装  (XC02030Y) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (10件)： 半導体デバイス製造 ,  純水 ,  RC ,  モニタ ,  純水装置 ,  水質管理 ,  イオン性物質 ,  TOC ,  H2O2 ,  汚染