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J-GLOBAL ID：200902233478646638   整理番号：06A0268875

ペンタセンの結晶成長に及ぼす高分子絶縁膜表面粗さの影響

著者 (5件)： 酒井平祐 (北陸先端科学技術大学院大) ,  山田頼通 (北陸先端科学技術大学院大) ,  羽曾部卓 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (JST-PRESTO)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 53rd  号： 3  ページ： 1421  発行年： 2006年03月22日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 結晶成長 ,...

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分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (5件)： ペンタセン ,  結晶成長 ,  高分子 ,  絶縁膜 ,  表面粗さ